一般常用的光柵是在玻璃片上刻出大量平行刻痕製成,刻痕為(wei) 不透光部分,兩(liang) 刻痕之間的光滑部分可以透光,相當於(yu) 一狹縫。精製的光柵,在1cm寬度內(nei) 刻有幾千條乃至上萬(wan) 條刻痕。
這種利用透射光衍射的光柵稱為(wei) 透射光柵,還有利用兩(liang) 刻痕間的反射光衍射的光柵,如在鍍有金屬層的表麵上刻出許多平行刻痕,兩(liang) 刻痕間的光滑金屬麵可以反射光,這種光柵成為(wei) 反射光柵。由光柵形成的疊柵條紋具有光學放大作用和誤差平均效應,因而能提高測量精度。
光柵傳(chuan) 感器由標尺光柵、指示光柵、光路係統和測量係統四部分組成。標尺光柵相對於(yu) 指示光柵移動時,便形成大致按正弦規律分布的明暗相間的疊柵條紋。
這些條紋以光柵的相對運動速度移動,並直接照射到光電元件上,在它們(men) 的輸出端得到一串電脈衝(chong) ,通過放大、整形、辨向和計數係統產(chan) 生數字信號輸出,直接顯示被測的位移量。
光柵傳(chuan) 感器的結構及工作原理
光柵傳(chuan) 感器的結構均由光源、主光柵、指示光柵、通光孔、光電元件這幾個(ge) 主要部分構成。
1、光源:鎢絲(si) 燈泡,它有較小的功率,與(yu) 光電元件組合使用時,轉換效率低,使用壽命短。半導體(ti) 發光器件,如砷化镓發光二極管,可以在 範圍內(nei) 工作,所發光的峰值波長為(wei) ,與(yu) 矽光敏三極管的峰值波長接近,因此,有很高的轉換效率,也有較快的響應速度。
2、光柵付:由柵距相等的主光柵和指示光柵組成。主光柵和指示光柵相互重疊,但又不完全重合。兩(liang) 者柵線間會(hui) 錯開一個(ge) 很小的夾角 ,以便於(yu) 得到莫爾條紋。一般主光柵是活動的,它可以單獨地移動,也可以隨被測物體(ti) 而移動,其長度取決(jue) 於(yu) 測量範圍。指示光柵相對於(yu) 光電器件而固定。
3、通光孔:通光孔是發光體(ti) 與(yu) 受光體(ti) 的通路,一般為(wei) 條形狀,其長度由受光體(ti) 的排列長度決(jue) 定,寬度由受光體(ti) 的大小決(jue) 定。它是帖在指示光柵板上的。
4、受光元件:受光元件是用來感知主光柵在移動時產(chan) 生莫爾條紋的移動,從(cong) 而測量位移量。在選擇光敏元件時,要考慮靈敏度、響應時間、光譜特性、穩定性、體(ti) 積等因素。
將主光柵與(yu) 標尺光柵重疊放置,兩(liang) 者之間保持很小的間隙,並使兩(liang) 塊光柵的刻線之間有一個(ge) 微小的夾角θ,如圖所示。
當有光源照射時,由於(yu) 擋光效應(對刻線密度≤50條/mm的光柵)或光的衍射作用(對刻線密度≥100條/mm的光柵),與(yu) 光柵刻線大致垂直的方向上形成明暗相間的條紋。
在兩(liang) 光柵的刻線重合處,光從(cong) 縫隙透過,形成亮帶;在兩(liang) 光柵刻線的錯開的地方,形成暗帶;這些明暗相間的條紋稱為(wei) 莫爾條紋。
莫爾條紋的間距與(yu) 柵距W和兩(liang) 光柵刻線的夾角θ(單位為(wei) rad)之間的關(guan) 係為(wei)
(K稱為(wei) 放大倍數)。
當指示光柵不動,主光柵的刻線與(yu) 指示光柵刻線之間始終保持夾角θ,而使主光柵沿刻線的垂直方向作相對移動時,莫爾條紋將沿光柵刻線方向移動;光柵反向移動,莫爾條紋也反向移動。
主光柵每移動一個(ge) 柵距W,莫爾條紋也相應移動一個(ge) 間距S。因此通過測量莫爾條紋的移動,就能測量光柵移動的大小和方向,這要比直接對光柵進行測量容易得多。
當主光柵沿與(yu) 刻線垂直方向移動一個(ge) 柵距W時,莫爾條紋移動一個(ge) 條紋間距。當兩(liang) 個(ge) 光柵刻線夾角θ較小時,由上述公式可知,W一定時,θ愈小,則B愈大,相當於(yu) 把柵距W放大了1/ θ倍。因此,莫爾條紋的放大倍數相當大,可以實現高靈敏度的位移測量。
莫爾條紋是由光柵的許多刻線共同形成的,對刻線誤差具有平均效應,能在很大程度上消除由於(yu) 刻線誤差所引起的局部和短周期誤差影響,可以達到比光柵本身刻線精度更高的測量精度。因此,計量光柵特別適合於(yu) 小位移、高精度位移測量。