一、增強型MOS管
1.結構與符號
圖Z0125是N溝道增強型MOS管的結構示意圖和符號。它是在一塊P型矽襯底上,擴散兩個高濃度摻雜的N+區,

2.工作原理
絕緣柵場效應管的導電機理是,利用UGS 控製"感應電荷"的多少來改變導電溝道的寬窄,從而控製漏極電流ID。若UGS=0時,源、漏之間不存在導電溝道的為增強型MOS管,UGS=0 時,漏、源之間存在導電溝道的為耗盡型MOS管。
圖Z0125中襯底為P型半導體,在它的上麵是一層SiO2薄膜、在SiO2薄膜上蓋一層金屬鋁,如果在金屬鋁層和半導體之間加電壓UGS,則金屬鋁與半導體之間產生一個垂直於半導體表麵的電場,在這一電場作用下,P型矽表麵的多數載流子-空穴受到排斥,使矽片表麵產生一層缺乏載流子的薄層。同時在電場作用下,P型半導體中的少數載流子-電子被吸引到半導體的表麵,並被空穴所俘獲而形成負離子,組成不可移動的空間電荷層(稱耗盡層又叫受主離子層)。UGS愈大,電場排斥矽表麵層中的空穴愈多,則耗盡層愈寬,且UGS愈大,電場愈強;當UGS 增大到某一柵源電壓值VT(叫臨界電壓或開啟電壓)時,則電場在排斥半導體表麵層的多數載流子-空穴形成耗盡層之後,就會吸引少數載流子-電子,繼而在表麵層內形成電子的積累,從而使原來為空穴占多數的P型半導體表麵形成了N型薄層。由於與P型襯底的導電類型相反,故稱為反型層。在反型層下才是負離子組成的耗盡層。這一N型電子層,把原來被PN結高阻層隔開的源區和漏區連接起來,形成導電溝道。
用圖Z0126所示

3.輸出特性曲線
N溝道增強型MOS管輸出特性曲線如圖Z0127所示,它是UGS為不同定值時,ID 與UDS之間關係的一簇曲線。由圖可見,各條曲線變化規律基本相同。現以UGS=5V一條

對於不同的UGS值,溝道深淺也不同,UGS愈大,溝道愈深。在恒流區,對於相同的UDS 值,UGS大的ID 也較大,表現為輸出特性曲線上移。
二、耗盡型MOS管
N溝道耗盡型MOS管和N溝道增強型MOS管的結構基本相同。差別在於耗盡型MOS管的SiO2絕緣層中摻有大量的正離子,故在UGS= 0時,就在兩個N十區之間的P型表麵層中感應出大量的電子來,形成一定寬度的導電溝道。這時,隻要UDS>0就會產生ID。
對於N溝道耗盡型MOS管,無論UGS為正或負,都能控製ID的大小,並且不出現柵流。這是耗盡型MOS管區別於增強型MOS管的主要特點。
對於P溝道場效應管,其工作原理,特性曲線和N溝道相類似。僅僅電源極性和電流方向不同而已。