晶體(ti) 三極管，是半導體(ti) 基本元器件之一，具有電流放大作用，是電子電路的核心元件。三極管是在一塊半導體(ti) 基片上製作兩(liang) 個(ge) 相距很近的PN結，兩(liang) 個(ge) PN結把正塊半導體(ti) 分成三部分，中間部分是基區，兩(liang) 側(ce) 部分是發射區和集電區，排列方式有PNP和NPN兩(liang) 種。

晶體(ti) 三極管（以下簡稱三極管）按材料分有兩(liang) 種：儲(chu) 管和矽管。而每一種又有NPN和PNP兩(liang) 種結構形式，但使用最多的是矽NPN和PNP兩(liang) 種三極管，兩(liang) 者除了電源極性不同外，其工作原理都是相同的，下麵僅(jin) 介紹NPN矽管的電流放大原理。
NPN管它是由2塊N型半導體(ti) 中間夾著一塊P型半導體(ti) 所組成，發射區與(yu) 基區之間形成的PN結稱為(wei) 發射結，而集電區與(yu) 基區形成的PN結稱為(wei) 集電結，三條引線分別稱為(wei) 發射極e、基極b和集電極。當b點電位高於(yu) e點電位零點幾伏時，發射結處於(yu) 正偏狀態，而C點電位高於(yu) b點電位幾伏時，集電結處於(yu) 反偏狀態，集電極電源Ec要高於(yu) 基極電源Ebo。

在製造三極管時，有意識地使發射區的多數載流子濃度大於(yu) 基區的，同時基區做得很薄，而且，要嚴(yan) 格控製雜質含量，這樣，一旦接通電源後，由於(yu) 由於(yu) 發射結正偏,，發射區的多數載流子（電子）極基區的多數載流子（控穴）很容易地截越過發射結構互相向反方各擴散，但因前者的濃度基大於(yu) 後者，所以通過發射結的電流基本上是電子流，這股電子流稱為(wei) 發射極電流Ie。由於(yu) 基區很薄，加上集電結的反偏，注入基區的電子大部分越過集電結進入集電區而形成集電集電流Ic，隻剩下很少（1-10%）的電子在基區的空穴進行複合，被複合掉的基區空穴由基極電源Eb重新補紀念給，從(cong) 而形成了基極電流Ibo根據電流連續性原理得：Ie=Ib+Ic這就是說，在基極補充一個(ge) 很小的Ib，就可以在集電極上得到一個(ge) 較大的Ic，這就是所謂電流放大作用，Ic與(yu) Ib是維持一定的比例關(guan) 係，即：β1=Ic/Ib式中：β--稱為(wei) 直流放大倍數，集電極電流的變化量△Ic與(yu) 基極電流的變化量△Ib之比為(wei) ：β=△Ic/△Ib式中β--稱為(wei) 交流電流放大倍數，由於(yu) 低頻時β1和β的數值相差不大，所以有時為(wei) 了方便起見，對兩(liang) 者不作嚴(yan) 格區分，β值約為(wei) 幾十至一百多。三極管是一種電流放大器件，但在實際使用中常常利用三極管的電流放大作用，通過電阻轉變為(wei) 電壓放大作用。

晶體(ti) 三極管 - 主要作用

三極管是一種控製元件，主要用來控製電流的大小，以共發射極接法為(wei) 例（信號從(cong) 基極輸入，從(cong) 集電極輸出，發射極接地），當基極電壓UB有一個(ge) 微小的變化時，基極電流IB也會(hui) 隨之有一小的變化，受基極電流IB的控製，集電極電流IC會(hui) 有一個(ge) 很大的變化，基極電流IB越大，集電極電流IC也越大，反之，基極電流越小，集電極電流也越小，即基極電流控製集電極電流的變化。但是集電極電流的變化比基極電流的變化大得多，這就是三極管的放大作用。IC 的變化量與(yu) IB變化量之比叫做三極管的放大倍數β（β=ΔIC/ΔIB, Δ表示變化量。），三極管的放大倍數β一般在幾十到幾百倍。

三極管在放大信號時，首先要進入導通狀態，即要先建立合適的靜態工作點，也叫建立偏置 ，否則會(hui) 放大失真。

在三極管的集電極與(yu) 電源之間接一個(ge) 電阻，可將電流放大轉換成電壓放大：當基極電壓UB升高時，IB變大，IC也變大，IC 在集電極電阻RC的壓降也越大，所以三極管集電極電壓UC會(hui) 降低，且UB越高，UC就越低，ΔUC=ΔUB。

晶體三極管 - 主要參數

1、直流參數

（1）集電極一基極反向飽和電流Icbo，發射極開路（Ie=0)時，基極和集電極之間加上規定的反向電壓Vcb時的集電極反向電流，它隻與(yu) 溫度有關(guan) ，在一定溫度下是個(ge) 常數，所以稱為(wei) 集電極一基極的反向飽和電流。良好的三極管，Icbo很小，小功率鍺管的Icbo約為(wei) 1～10微安，大功率鍺管的Icbo可達數毫安，而矽管的Icbo則非常小，是毫微安級。

（2）集電極一發射極反向電流Iceo(穿透電流）基極開路（Ib=0）時，集電極和發射極之間加上規定反向電壓Vce時的集電極電流。Iceo大約是Icbo的β倍即Iceo=(1+β)IcbooIcbo和Iceo受溫度影響極大，它們(men) 是衡量管子熱穩定性的重要參數，其值越小，性能越穩定，小功率鍺管的Iceo比矽管大。

（3）發射極---基極反向電流Iebo集電極開路時，在發射極與(yu) 基極之間加上規定的反向電壓時發射極的電流，它實際上是發射結的反向飽和電流。

（4）直流電流放大係數β1（或hEF）這是指共發射接法，沒有交流信號輸入時，集電極輸出的直流電流與(yu) 基極輸入的直流電流的比值，即：β1=Ic/Ib

2、交流參數

（1）交流電流放大係數β（或hfe）這是指共發射極接法，集電極輸出電流的變化量△Ic與(yu) 基極輸入電流的變化量△Ib之比，即：β=△Ic/△Ib一般晶體(ti) 管的β大約在10-200之間，如果β太小，電流放大作用差，如果β太大，電流放大作用雖然大，但性能往往不穩定。

（2）共基極交流放大係數α（或hfb）這是指共基接法時，集電極輸出電流的變化是△Ic與(yu) 發射極電流的變化量△Ie之比，即：α=△Ic/△Ie因為(wei) △Ic＜△Ie，故α＜1。高頻三極管的α＞0.90就可以使用α與(yu) β之間的關(guan) 係：α=β/（1+β）β=α/（1-α）≈1/（1-α）

（3）截止頻率fβ、fα當β下降到低頻時0.707倍的頻率，就是共發射極的截止頻率fβ；當α下降到低頻時的0.707倍的頻率，就是共基極的截止頻率fαofβ、fα是表明管子頻率特性的重要參數，它們(men) 之間的關(guan) 係為(wei) ：fβ≈（1-α）fα

（4）特征頻率fT因為(wei) 頻率f上升時，β就下降，當β下降到1時，對應的fT是全麵地反映晶體(ti) 管的高頻放大性能的重要參數。

3、極限參數

（1）集電極最大允許電流ICM當集電極電流Ic增加到某一數值，引起β值下降到額定值的2/3或1/2，這時的Ic值稱為(wei) ICM。所以當Ic超過ICM時，雖然不致使管子損壞，但β值顯著下降，影響放大質量。

（2）集電極----基極擊穿電壓BVCBO當發射極開路時，集電結的反向擊穿電壓稱為(wei) BVEBO。

（3）發射極-----基極反向擊穿電壓BVEBO當集電極開路時，發射結的反向擊穿電壓稱為(wei) BVEBO。

（4）集電極-----發射極擊穿電壓BVCEO當基極開路時，加在集電極和發射極之間的最大允許電壓，使用時如果Vce＞BVceo，管子就會(hui) 被擊穿。

（5）集電極最大允許耗散功率PCM集電流過Ic，溫度要升高，管子因受熱而引起參數的變化不超過允許值時的最大集電極耗散功率稱為(wei) PCM。管子實際的耗散功率於(yu) 集電極直流電壓和電流的乘積，即Pc=Uce×Ic.使用時慶使Pc＜PCM。PCM與(yu) 散熱條件有關(guan) ，增加散熱片可提高PCM。

晶體(ti) 三極管 - 特性曲線

1、輸入特性其特點是：

1）當Uce在0-2伏範圍內(nei) ，曲線位置和形狀與(yu) Uce有關(guan) ，但當Uce高於(yu) 2伏後，曲線Uce基本無關(guan) 通常輸入特性由兩(liang) 條曲線（Ⅰ和Ⅱ）表示即可。

2）當Ube＜UbeR時，Ib≈O稱（0～UbeR)的區段為(wei) “死區”當Ube＞UbeR時，Ib隨Ube增加而增加，放大時，三極管工作在較直線的區段。

3）三極管輸入電阻，定義(yi) 為(wei) :rbe=(△Ube/△Ib)Q點，其估算公式為(wei) ：rbe=rb+(β+1)(26毫伏/Ie毫伏）rb為(wei) 三極管的基區電阻，對低頻小功率管，rb約為(wei) 300歐。

2、輸出特性

輸出特性表示Ic隨Uce的變化關(guan) 係（以Ib為(wei) 參數），它分為(wei) 三個(ge) 區域：截止區、放大區和飽和區。截止區當Ube＜0時，則Ib≈0，發射區沒有電子注入基區，但由於(yu) 分子的熱運動，集電集仍有小量電流通過，即Ic=Iceo稱為(wei) 穿透電流，常溫時Iceo約為(wei) 幾微安，鍺管約為(wei) 幾十微安至幾百微安，它與(yu) 集電極反向電流Icbo的關(guan) 係是：Icbo=(1+β)Icbo常溫時矽管的Icbo小於(yu) 1微安，鍺管的Icbo約為(wei) 10微安，對於(yu) 鍺管，溫度每升高12℃，Icbo數值增加一倍，而對於(yu) 矽管溫度每升高8℃，Icbo數值增大一倍，雖然矽管的Icbo隨溫度變化更劇烈，但由於(yu) 鍺管的Icbo值本身比矽管大，所以鍺管仍然受溫度影響較嚴(yan) 重的管，放大區，當晶體(ti) 三極管發射結處於(yu) 正偏而集電結於(yu) 反偏工作時，Ic隨Ib近似作線性變化，放大區是三極管工作在放大狀態的區域。飽和區當發射結和集電結均處於(yu) 正偏狀態時，Ic基本上不隨Ib而變化，失去了放大功能。根據三極管發射結和集電結偏置情況，可能判別其工作狀態。

截止區和飽和區是三極管工作在開關(guan) 狀態的區域，三極管和導通時，工作點落在飽和區，三極管截止時，工作點落在截止區。